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新书速递|《光学光刻和极紫外光刻》:系统解读光刻技术,支持“摩尔定律”的延续

发布时间:2022-11-24 10:19:08     发布者:市场部    阅读数次:362


    在当今信息化发展的大趋势下,芯片已然成为“刚需品”。尽管芯片的体积很小,却无处不在,它关系到社会的各个领域,被称为信息社会的基石和心脏。 

    光刻机是制造芯片最核心的装备,由光刻机完成的光刻工艺是芯片制程的最关键环节。“光刻技术”则是一个更宽泛的概念,它是实现光刻工艺所需要的各种技术的总称。

    先进的光刻技术是世界上最精密的光学系统与精心设计、高度优化的光化学材料及精密加工工艺的结合,它驱动了芯片的纳米尺度不断缩小,芯片上晶体管密度不断提高,保证了“摩尔定律”不断延续,从而推动整个信息社会的发展。

            

                            一本系统解读光刻技术的最新专著

                            引进自国际光学工程学会(SPIE

                         

                           国际光刻技术研发领军人物爱德曼最新力作

                            光刻技术权威专家高伟民博士领衔翻译

                                []安迪•爱德曼 著

                              高伟民 徐东波 诸波尔 译

                                 上海科学技术出版社

                               ISBN: 978-7-5478-5720-5

                                  定价:195.00

内容简介:

   本书是一本最新的光刻技术专著,内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上,涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,采用了完整而不烦琐的方法,增加了可读性。本书在系统地阐述光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点,它凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华。

著译者信息:

                  

                          安迪•爱德曼

♦国际光学工程学会(SPIE)会士,长期从事光刻技术研发的代表性领军人物

♦德国弗劳恩霍夫协会(Fraunhofer)下属集成系统和元器件技术研究所(IISB)计算光刻和光学部门的负责人

♦埃朗根大学(University of Erlangen)的客座教授、国际Fraunhofer光刻仿真研讨会的组织者

♦拥有25年以上的光学光刻和极紫外光刻的研究经验,为多个先进光刻仿真软件的发展做出了关键贡献,其中包括光刻仿真软件Dr. LiTHO的研发

                  

                           高伟民

♦资深的光刻技术专家

♦阿斯麦公司(ASML)中国区技术总监

♦曾任职于比利时微电子研发中心(IMEC)和美国新思科技(Synopsys

♦专注先进光刻技术研发20多年,拥有16年极紫外光刻技术研发的丰富经验

♦技术专长涵盖了广泛的光刻领域,包括光刻工艺开发、成像技术、分辨率增强技术、计算光刻、先进掩模和设计工艺协同优化技术(DTCO)等

                  

                            徐东波

♦比利时微电子研发中心(IMEC)研究员,博士攻读于德国埃朗根弗劳恩霍夫(Fraunhofer IISB)计算光刻和光学小组

♦研究方向包括光学光刻和极紫外光刻仿真、光源掩模协同优化(SMO)、光学邻近效应校正(OPC)建模及图像处理

                  

                            诸波尔

♦阿斯麦公司(ASML)中国区计算光刻高级工程师、项目主管

♦拥有0.18μm7nm全节点计算光刻研发经验,掌握光源掩模协同优化(SMO)和光学邻近效应校正(OPC)建模在各制程节点中的应用与优化技术

♦研究方向还包括光学光刻和极紫外光刻仿真、光源掩模协同优化(SMO)、光学邻近效应校正(OPC)建模及图像处理

本书亮点:

          

   全——本书是一本系统解读光学光刻技术的最新专著,涵盖了该领域的各个重要方面,内容全面且丰富;平衡了理论的深度和内容的广度,有基础理论的推演,也有应用实例的分析。

   精——本书凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华,对于从事芯片领域的专业技术人员,这是一本手册性的内容丰富的参考书。

   新——介绍了光刻技术的最新发展,在论述光刻技术的共性内容后,也较为详细地介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。

读者对象:

芯片制造、半导体设备、光刻技术等相关方面的技术和管理人员

集成电路、微纳电子、光电工程等专业本科生

短波光学、激光与物质相互作用、激光等离子体、极紫外光辐射等领域的研究生和专业研究人员