发布时间：2022-11-24 10:19:08 发布者:市场部 阅读数次：3780 次
在当今信息化发展的大趋势下，芯片已然成为“刚需品”。尽管芯片的体积很小，却无处不在，它关系到社会的各个领域，被称为信息社会的基石和心脏。
光刻机是制造芯片最核心的装备，由光刻机完成的光刻工艺是芯片制程的最关键环节。“光刻技术”则是一个更宽泛的概念，它是实现光刻工艺所需要的各种技术的总称。
先进的光刻技术是世界上最精密的光学系统与精心设计、高度优化的光化学材料及精密加工工艺的结合，它驱动了芯片的纳米尺度不断缩小，芯片上晶体管密度不断提高，保证了“摩尔定律”不断延续，从而推动整个信息社会的发展。
一本系统解读光刻技术的最新专著
引进自国际光学工程学会（SPIE）
国际光刻技术研发领军人物爱德曼最新力作
光刻技术权威专家高伟民博士领衔翻译
[德]安迪•爱德曼 著
高伟民 徐东波 诸波尔 译
上海科学技术出版社
ISBN: 978-7-5478-5720-5
定价：195.00元
内容简介:
本书是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不烦琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华。
著译者信息:
安迪•爱德曼
♦国际光学工程学会（SPIE）会士，长期从事光刻技术研发的代表性领军人物
♦德国弗劳恩霍夫协会（Fraunhofer）下属集成系统和元器件技术研究所（IISB）计算光刻和光学部门的负责人
♦埃朗根大学（University of Erlangen）的客座教授、国际Fraunhofer光刻仿真研讨会的组织者
♦拥有25年以上的光学光刻和极紫外光刻的研究经验，为多个先进光刻仿真软件的发展做出了关键贡献，其中包括光刻仿真软件Dr. LiTHO的研发
高伟民
♦资深的光刻技术专家
♦阿斯麦公司（ASML）中国区技术总监
♦曾任职于比利时微电子研发中心（IMEC）和美国新思科技（Synopsys）
♦专注先进光刻技术研发20多年，拥有16年极紫外光刻技术研发的丰富经验
♦技术专长涵盖了广泛的光刻领域，包括光刻工艺开发、成像技术、分辨率增强技术、计算光刻、先进掩模和设计工艺协同优化技术（DTCO）等
徐东波
♦比利时微电子研发中心（IMEC）研究员，博士攻读于德国埃朗根弗劳恩霍夫（Fraunhofer IISB）计算光刻和光学小组
♦研究方向包括光学光刻和极紫外光刻仿真、光源掩模协同优化（SMO）、光学邻近效应校正（OPC）建模及图像处理
诸波尔
♦阿斯麦公司（ASML）中国区计算光刻高级工程师、项目主管
♦拥有0.18μm～7nm全节点计算光刻研发经验，掌握光源掩模协同优化（SMO）和光学邻近效应校正（OPC）建模在各制程节点中的应用与优化技术
♦研究方向还包括光学光刻和极紫外光刻仿真、光源掩模协同优化（SMO）、光学邻近效应校正（OPC）建模及图像处理
本书亮点:
全——本书是一本系统解读光学光刻技术的最新专著，涵盖了该领域的各个重要方面，内容全面且丰富；平衡了理论的深度和内容的广度，有基础理论的推演，也有应用实例的分析。
精——本书凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华，对于从事芯片领域的专业技术人员，这是一本手册性的内容丰富的参考书。
新——介绍了光刻技术的最新发展，在论述光刻技术的共性内容后，也较为详细地介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。
读者对象:
芯片制造、半导体设备、光刻技术等相关方面的技术和管理人员
集成电路、微纳电子、光电工程等专业本科生
短波光学、激光与物质相互作用、激光等离子体、极紫外光辐射等领域的研究生和专业研究人员
